半导体行业VOCs废气主要来源于光刻、显影、刻蚀及扩散等工序。在这些工序过程中，使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量的有机成分，这些有机溶剂大部分会挥发到空气中，逸散在生产车间内，不仅会对员工身体造成很大的伤害，也会对周围环境造成很大的污染。为改善某半导体制造企业生产车间环境，琰科针对该项目废气特点为企业设计了一套VOCs治理系统，经系统处理后的尾气浓度远低于国内及地方标准，同时大幅降低了企业的运行成本。
本项目有机废气主要成分包括异丙醇（约占70~75%）、丙酮（约占10~15%）、光刻胶（约占5~10%）及其他需特殊处理组分，平均浓度≤300mg/m³。
工艺选择原则：
（1）确保系统安全、稳定、达标运行；
（2）不影响甲方的生产工艺和质量；
（3）采用成熟的技术及设备，实现系统的安全稳定运行；
（4）系统布置便于安装、操作及检修，便于运行管理。
本项目针对客户车间尾气，整体设计处理能力85000Nm³/h，采用了琰科特殊设计的预处理+沸石转轮系统+RTO+余热利用系统，使处理之后的排放浓度常年低于10mg/m³，治理排放指标远远优于国内及地方新排放标准。相较于该行业传统的治理工艺——直燃炉TO技术，当前使用的处理工艺能够节省大量运行费用，根据目前项目的运行数据测算（对比该客户其他厂区运行数据），燃气费用可节省50%-55%。
琰科历经十余年发展，凭借好的系统工艺设计、项目组织管理能力，已成为汽车制造业、医药、食品等行业的合作伙伴，为客户提供了多套安全、高效、节能的VOCs系统解决方案，积累了丰富的项目设计和实施经验。琰科持续为客户创造价值，助力双碳目标达成。
